通过将精细电路图案曝光在称为晶圆的半导体基板上而制成的。
而光刻机设备的作用就是在掩膜版上绘制的电路图案，通过投影透镜缩小，再将图案曝光在硅晶圆上。
光刻机作为芯片生产过程中，复杂性最高，技术含量最高的设备，被称为半导体工业皇冠上的明珠。
芯片生产，光刻机是很重要。但也只是沉积，光刻，刻蚀，离子注入、清洗、氧化、检测，这前七道生产芯片工艺环节中的一道环节设备。
单单靠一台光刻机，就直接造出一枚枚芯片出来，这简直就是天方夜谭的事。
木村光一带着众人来到了一台显微镜边，他拿出了一片晶圆递给徐教授，并说道：“这片晶圆的芯片，光刻环节是由霓糠公司n79k光刻机完成的。”
很显然，他是想让徐教授去观看芯片里的微观结构，来证明霓糠公司的光刻机是不是真的已经达到一微米了。
“谢谢！”徐教授说完接过晶圆，并把它放在显微镜下，仔细的看了起来。
现场异常的安静……
也不知道过了多久.....
徐教授深吸一口气，默不作声，离开了显微镜。
“老徐，怎么样？”
“是啊！老徐，你倒是说句话啊！”
徐教授无奈的回答道：“你们自己看吧！”
闻言，陈工、王工、李工、赵工等众人也轮流观看起显微镜下芯片里的晶圆微观结构。
陈工最先开口：“这片芯片的工艺节点精度数，比我们造的芯片工艺节点精度数，要小很多。
每一块芯片里面，容纳的晶体管数至少有十几万个。”
王工看向徐教授，“确实是使用了一微米曝光度的光刻机，可以不用怀疑。
现在，岛国光刻机技术毋庸置疑，已经是最强国家了。”
1亳米＝1000微米
1微米＝1000纳米
芯片的节点精度数越小，代表的工艺水平越先进，单位面积内所能蚀刻的晶体管也就越多，晶体管数量越多，意味着芯片的运算速率越快，性能也就越强。
徐教授没有回答而是沉痛的点了下头，表示陈工和王工俩人的话没错！
事实也的确如此！
岛国给予企业极优厚的政策和丰厚的资金，并在1976成立了超大规模集成电路技术研究组合，技术研究组合的成员企业，实现上下游厂商的通力协作，共同研发，共同进步。
霓糠和加能两公司更是在光学设备上，不管是镜头还是平台，还是自动化技术，全部都是自研，这也是研发光刻机的前置技能，能快速追上米国的前提。
从源头解决需求，研发沟通更迅速，技术迭代更精准，生产成本更低廉。
米国的光刻机厂商守旧与傲慢，而且还故步自封，根本就不听取顾客的反馈意见。
去年也就是1982年霓糠公司交付给米国客户第一台光刻机设备的时候，就开始雇佣当地工程师建立硅谷霓糠精机服务中心，用高效和低成本的打法，开始从米国三雄手里夺下一个接一个大客户。
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